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学术报告:分子取向的光刻技术及平面光学元器件的精密制造

作者:       发布: 2021-06-03      来源:

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报告题目:

分子取向的光刻技术及平面光学元器件的精密制造

  间:202164日(星期五)下午15:00-16:00

  点:新主楼A849会议室

报告人:韦齐和教授(南方科技大学机械与能源工程系)

邀请人:徐晔教授

报告人简介:

韦齐和教授,南方科技大学机械与能源工程系教授,德国洪堡学者和美国国家科学基金会CAREER奖的获得者,国际光学工程学会(SPIE)会士。2020年前任美国肯特州立大学物理系,液晶研究所终身正教授。韦齐和教授的研究涉猎统计物理,光学,力学,材料工程,传感器,仿生,先进制造等多学科交叉领域;在单通道扩散、纳米粒子等离激元及其耦合、低对称性粒子的布郎运动,活物质的控制,光控分子取向等一系列问题做出了原创性的贡献。现在的研究包括微/纳米制造,平面光学元器件,分子图案化,液晶/高分子,活物质,3D打印,仿生等。

 

摘要:

 

光刻技术是微电子和光电器件制造技术的核心。传统光刻依赖于掩模板产生的光强空间调制图案来调控光刻胶的光化学反应,从而产生微纳结构。本报告将介绍一种新型的光刻技术:通过等离激元超掩模对光强和偏振方向的空间分布同时产生调制,并它对光敏液晶分子的空间取向进行刻写 等离激元分子光刻方法分辨率高,产率高,带来很多可能应用。报告将介绍基于几何相位的液晶平面光学元器件的设计和精密制造。得益于其高光效,低漏光,超轻薄和易集成的特点,液晶平面光学元器件的有很广泛的应用前景。报告还将介绍光图案化在可编程刺激重构材料,活物质和微流体方面的应用。